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包絡(luò)條件 |
“E”是Envelope的縮寫(xiě)，標(biāo)示尺寸公差、幾何公差的相互依存性。管控理想形狀的包絡(luò)面。
- 什么是
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非剛性部件的自由狀態(tài) |
“F”是Free state的縮寫(xiě)，代表在自由狀態(tài)下的變形會(huì)超出尺寸公差及幾何公差的部件。
- 什么是
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最小實(shí)體要求的適用 |
“L”是Least Material Requirement的縮寫(xiě)，該符號(hào)標(biāo)示適用最小實(shí)體要求。
- 什么是
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最大實(shí)體要求的適用 |
“M”是Maximum Material Requirement的縮寫(xiě)，該符號(hào)標(biāo)示適用最大實(shí)體要求。
- 什么是
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投影公差帶的標(biāo)示 |
“P”是Projected Tolerance Zone的縮寫(xiě)，該符號(hào)標(biāo)示適用于要素突出部的公差。
- 什么是
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不使用實(shí)體要求 |
| ANSI規(guī)格中的符號(hào)。“Regardless of Feature Size（RFS）”的縮寫(xiě)。在2009年版ASME Y14.5中被刪除。 |
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切面的標(biāo)示（僅限ASME） |
| “T”是Tangent Plane的縮寫(xiě)，代表在標(biāo)示的表面范圍內(nèi)，與對(duì)象表面相切的平面相對(duì)于基準(zhǔn)平面的傾斜程度，用平行度表示這一程度。不同于平行度，僅要求表面的凸部，對(duì)凹部不作要求。 |
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輪廓度公差的非對(duì)稱分布（僅限ASME） |
| “U”是Unequally Disposed Profile的縮寫(xiě)，對(duì)于面輪廓度，管控偏移量可超出公差帶的范圍（公差帶的極限）。ISO中標(biāo)注為“UZ”。 |
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帶公差要素 |
標(biāo)示符號(hào)、公差、幾何公差的種類、位置等。
- 形體控制框
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基準(zhǔn)標(biāo)示 |
基準(zhǔn)的位置。
- 基準(zhǔn)要素的圖紙標(biāo)注
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基準(zhǔn)目標(biāo) |
用于設(shè)定基準(zhǔn)的點(diǎn)、線、區(qū)域。
- 基準(zhǔn)目標(biāo)
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理論正確尺寸（TED） |
理論正確尺寸（TED：Theoretically Exact Dimension）。
- 真位置度理論（用方框圍起的尺寸值）
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公共公差帶 |
“CZ”是Common Zone的縮寫(xiě)。將位于不同位置的多個(gè)要素視為1個(gè)公差帶的指定方法。
- 形體控制框
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輪廓度（整個(gè)外周） |
將幾何公差適用于箭頭所指的要素的整個(gè)外周。
- 形狀公差、位置公差-（線輪廓度、面輪廓度）
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輪廓度（整體） |
將幾何公差適用于箭頭所指的整個(gè)要素。
- 形狀公差、位置公差-（線輪廓度、面輪廓度）
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可動(dòng)基準(zhǔn)目標(biāo)（僅限ASME：ISO正在提案中） |
| 指定基準(zhǔn)目標(biāo)以及與之相關(guān)聯(lián)的基準(zhǔn)可移動(dòng)。即使目標(biāo)物在已安裝部件的狀態(tài)下發(fā)生了變形，也能夠移動(dòng)基準(zhǔn)目標(biāo)與基準(zhǔn)。 |
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锪平臺(tái)（僅限ASME） |
將孔口進(jìn)一步鉆大挖深的切削加工。
- 锪平臺(tái)
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統(tǒng)計(jì)公差（僅限ASME） |
根據(jù)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，指定將公差分配到組裝構(gòu)成部件。 適用統(tǒng)計(jì)公差后，可以增大各構(gòu)成要素的公差，減少嵌合部件的間隙。雖然該公差方式有利于實(shí)現(xiàn)制造成本削減及產(chǎn)品性能提升，但必須以妥善開(kāi)展統(tǒng)計(jì)學(xué)工序管理為前提。
- ISO與ASME的對(duì)比
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連續(xù)要素（僅限ASME） |
“CF”是Continuous Feature的縮寫(xiě)。 要求在幾何學(xué)上視為單一對(duì)象時(shí)指定。
- ISO與ASME的對(duì)比
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