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包絡(luò)條件 |
“E”是Envelope的縮寫,標(biāo)示尺寸公差、幾何公差的相互依存性。管控理想形狀的包絡(luò)面。
- 什么是
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非剛性部件的自由狀態(tài) |
“F”是Free state的縮寫,代表在自由狀態(tài)下的變形會超出尺寸公差及幾何公差的部件。
- 什么是
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最小實體要求的適用 |
“L”是Least Material Requirement的縮寫,該符號標(biāo)示適用最小實體要求。
- 什么是
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最大實體要求的適用 |
“M”是Maximum Material Requirement的縮寫,該符號標(biāo)示適用最大實體要求。
- 什么是
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投影公差帶的標(biāo)示 |
“P”是Projected Tolerance Zone的縮寫,該符號標(biāo)示適用于要素突出部的公差。
- 什么是
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不使用實體要求 |
ANSI規(guī)格中的符號。“Regardless of Feature Size(RFS)”的縮寫。在2009年版ASME Y14.5中被刪除。 |
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切面的標(biāo)示(僅限ASME) |
“T”是Tangent Plane的縮寫,代表在標(biāo)示的表面范圍內(nèi),與對象表面相切的平面相對于基準(zhǔn)平面的傾斜程度,用平行度表示這一程度。不同于平行度,僅要求表面的凸部,對凹部不作要求。 |
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輪廓度公差的非對稱分布(僅限ASME) |
“U”是Unequally Disposed Profile的縮寫,對于面輪廓度,管控偏移量可超出公差帶的范圍(公差帶的極限)。ISO中標(biāo)注為“UZ”。 |
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帶公差要素 |
標(biāo)示符號、公差、幾何公差的種類、位置等。
- 形體控制框
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基準(zhǔn)標(biāo)示 |
基準(zhǔn)的位置。
- 基準(zhǔn)要素的圖紙標(biāo)注
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基準(zhǔn)目標(biāo) |
用于設(shè)定基準(zhǔn)的點、線、區(qū)域。
- 基準(zhǔn)目標(biāo)
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理論正確尺寸(TED) |
理論正確尺寸(TED:Theoretically Exact Dimension)。
- 真位置度理論(用方框圍起的尺寸值)
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公共公差帶 |
“CZ”是Common Zone的縮寫。將位于不同位置的多個要素視為1個公差帶的指定方法。
- 形體控制框
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輪廓度(整個外周) |
將幾何公差適用于箭頭所指的要素的整個外周。
- 形狀公差、位置公差-(線輪廓度、面輪廓度)
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輪廓度(整體) |
將幾何公差適用于箭頭所指的整個要素。
- 形狀公差、位置公差-(線輪廓度、面輪廓度)
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可動基準(zhǔn)目標(biāo)(僅限ASME:ISO正在提案中) |
指定基準(zhǔn)目標(biāo)以及與之相關(guān)聯(lián)的基準(zhǔn)可移動。即使目標(biāo)物在已安裝部件的狀態(tài)下發(fā)生了變形,也能夠移動基準(zhǔn)目標(biāo)與基準(zhǔn)。 |
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锪平臺(僅限ASME) |
將孔口進一步鉆大挖深的切削加工。
- 锪平臺
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統(tǒng)計公差(僅限ASME) |
根據(jù)統(tǒng)計數(shù)據(jù),指定將公差分配到組裝構(gòu)成部件。 適用統(tǒng)計公差后,可以增大各構(gòu)成要素的公差,減少嵌合部件的間隙。雖然該公差方式有利于實現(xiàn)制造成本削減及產(chǎn)品性能提升,但必須以妥善開展統(tǒng)計學(xué)工序管理為前提。
- ISO與ASME的對比
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連續(xù)要素(僅限ASME) |
“CF”是Continuous Feature的縮寫。 要求在幾何學(xué)上視為單一對象時指定。
- ISO與ASME的對比
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